铜表面硫化膜形成及其电接触特性

摘要：

用库仑分析法测定了在湿热含H2S气氛中铜表面腐蚀膜层的厚度及其随腐蚀时间的变化,对不同H2S浓度的膜层变化曲线存在的差异进行了探讨.俄歇能谱分析表明库仑分析法测定铜的硫化腐蚀膜厚度是可靠的.分析了膜层厚度变化对电接触性能的影响及其异常现象.

关键词：铜腐蚀膜、库仑分析法、电接触

所属期刊栏目：20

分类号：TG1(金属学与热处理)

在线出版日期：2004-01-08（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共3页

页码：120-122