原子层沉积制备Al2O3包覆层对LiNi0.83Co0.12Mn0.05O2性能的影响

摘要：

研究了原子层沉积(atomic layer deposition,ALD)技术制备的Al2O3包覆层对高镍三元材料LiNi0.83Co0.12Mn0.05O2性能的影响,主要包括形貌特征、晶胞结构以及电化学性能的影响.通过ALD技术在LiNi0.83Co0.12Mn0.05O2表面包覆厚度约为1.5 nm的Al2O3包覆层后,对高镍三元材料的晶胞结构参数以及体相R-3m层状结构无显著影响.因Al2O3电导率较低,包覆后主要使得电荷转移阻抗升高,从38.87 mΩ升高至45.76 mΩ,从而导致包覆后材料的比容量比空白样品低3 mAh/g,放电倍率性能以及低温性能变差.包覆后材料在25和45℃下采用1C倍率100％ DOD充放电,循环寿命得到明显提升.25℃下,在容量保持率达到90％时循环寿命提升34.45％;45℃下,容量保持率达到80％时,循环寿命提升20.59％,表明ALD技术制备的Al2O3表面保护层有效地提升了活性物质与电解液之间的界面稳定性.

关键词：原子层沉积、锂离子电池、LiNi0.83Co0.12Mn0.05O2、电化学性能

所属期刊栏目：43

分类号：TM912

资助基金：国家重点研发计划SQ2016ZY02003471

在线出版日期：2019-11-21（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：1588-1591,1614