10.3969/j.issn.1002-087X.2015.09.031
喷镀法制备纳米厚度CdS薄膜
介绍了采用喷镀的方法制备纳米厚度的CdS薄膜.研究喷镀法制备CdS薄膜过程中的一系列反应机理和影响因素,着重研究在喷镀过程中,装置的设计、温度的控制及时间的选取.经过实验比较得到喷镀法制备CdS薄膜较佳的实验条件.
喷镀法、硫化镉、铜铟镓硒、太阳电池
39
TM914
2015-10-16(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共3页
1903-1904,1908
10.3969/j.issn.1002-087X.2015.09.031
喷镀法、硫化镉、铜铟镓硒、太阳电池
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2015-10-16(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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1903-1904,1908
国家重点研发计划“现代服务业共性关键技术研发及应用示范”重点专项“4.8专业内容知识聚合服务技术研发与创新服务示范”
国家重点研发计划资助 课题编号:2019YFB1406304
National Key R&D Program of China Grant No. 2019YFB1406304
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