射频磁控溅射沉积铝掺杂氧化锌薄膜的研究

摘要：

采用射频磁控溅射法沉积铝掺杂氧化锌(ZnO∶Al,简称AZO)薄膜,研究了本底压强、溅射功率以及沉积时间对AZO薄膜光电性质的影响,优化了该层薄膜的沉积工艺.研究结果表明,在尽可能低的本底压强下,采用适中的溅射功率(500 W),制备出厚度约为500 nm的AZO薄膜,其电阻率达到5×10-4Ω·cm,可见光范围内的平均透过率达到82.7％.

关键词：铝掺杂氧化锌薄膜、射频磁控溅射、导电性、透过率

所属期刊栏目：39

分类号：TM914

在线出版日期：2015-09-14（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共3页

页码：1682-1684