10.3969/j.issn.1002-087X.2014.10.001
美国科学家用电沉积法制备锂电池用锗纳米线
锗是一种重要的Ⅳ族半导体材料,可用来制造晶体管及各种电子装置.与硅相比,锗的电子迁移率是其2倍”3 900 cm2/(V·s)”,空穴迁移率是其4倍”1 900 cm2/(V·s)”,激子玻尔半径较大(24 nm)和空穴有效质量较低.因为锗的载流子迁移率较高,所以它被认为可以替代硅作为CMOS晶体管的活性管道材料.另外,锗还是一种非常有吸引力的锂离子电池负极材料,因为其理论充放电容量比石墨高.不过,由于它的体积在充放电过程中会发生370%的膨胀,所以会导致用其制作的电极发生破碎及电接触损失.
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TB3;TN4
2014-11-18(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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