多孔钛基氢氧化锰电极的制备及电容特性

摘要：

用电化学方法制备了一种多孔钛基氢氧化锰膜电极.钛片在热的盐酸中刻蚀20 min,然后在刻蚀的钛基体上阴极电沉积一层氢氧化锰.用扫描电镜仪、X射线粉末衍射仪分别考察了氢氧化锰膜电极的形貌、晶体结构特征,用循环伏安法和充放电曲线法测试氢氧化锰膜电极的电化学性能.结果表明,腐蚀后的钛基体呈现多孔特征,孔径大小在微米级范围.沉积的氢氧化锰呈现纳米片状结构,并相互交错成花状形貌.充放电曲线法测得氢氧化锰膜电极的质量比电容达340 F/g,比普通钛基氢氧化锰膜电极高出28％.循环稳定性测试表明200次循环后,多孔钛基氢氧化锰膜电极比电容只下降7％,而在后续循环扫描过程中容量保持非常稳定.多孔钛基氢氧化锰膜电极是一种有潜力的电化学电容器电极.

关键词：电化学电容器、氢氧化锰、电沉积、多孔钛

所属期刊栏目：37

分类号：TM53(电器)

资助基金：湖南省科技厅计划项目2012GK3098

在线出版日期：2013-11-06（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：1559-1561,1565