期刊专题

10.3969/j.issn.1002-087X.2010.01.009

真空热蒸发制备ZnS薄膜及其特性的研究

引用
用真空热蒸发在不同衬底温度下制备了ZnS薄膜,利用X射线衍射(XRD)、X射线能谱(EDAX)、紫外可见分光光度计(UV-vis)和原子力显微镜(AFM)研究了ZnS薄膜的晶体结构、成分、光学性能和形貌,分析了衬底温度对ZnS薄膜结构与光学特性的影响.结果表明,所制备的ZnS薄膜呈立方闪锌矿结构,衬底温度为300℃所制备的ZnS薄膜原子比(S/Zn)为0.95/1;薄膜表面均匀致密,呈多晶态,晶粒尺寸为18.2 nm;在可见区有好的透射性能,光学禁带宽度为3.82 eV.

ZnS、薄膜、热蒸发、光学带隙、Burstin-Moss、效应

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TM914.4

陕西省自然科学基础研究计划项目2005F37

2010-06-28(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

共4页

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电源技术

1002-087X

12-1126/TM

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2010,34(1)

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