期刊专题

10.3969/j.issn.1002-087X.2006.01.015

新型含硅全氟磺酸膜性能研究

引用
采用纳米原位复合技术制备了Nafion/SiO2复合膜,TG-DSC(热失重-差热)分析表明Nafion1135/SiO2复合膜比Nafion1135膜具有较高的含水和保水能力;溶胀率测试表明Nafion1135/S1O2复合膜能明显降低膜的溶胀形变,其形变能力只有Nafion1135膜的1/4;110℃时,Nafion1135/SiO2复合膜的电阻率只有Nafion1135膜的1/2.

Nafion/SiO2复合膜、水分、形变、电阻率

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TM911.4

2006-03-23(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

共3页

51-52,59

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电源技术

1002-087X

12-1126/TM

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2006,30(1)

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