钒含量对磁控溅射TiAlVN薄膜性能的影响

摘要：

采用磁控溅射法在不同V靶功率下制得一系列不同V含量的TiAlVN膜.通过能谱分析、X射线衍射、硬度测量和高温退火研究了V原子分数对TiAlVN膜成分、晶相结构、硬度和抗高温氧化性能的影响.结果表明,不同V含量的TiAlVN膜均为面心立方结构,呈TiN(111)面择优取向.随V原子分数的增大,TiAlVN膜的硬度增大,抗高温氧化性能变差.当V原子分数为16.96％(即磁控溅射的V靶功率为60 W)时,TiAlVN膜的硬度最高(为31.67 GPa),抗高温氧化性能较好.

关键词：磁控溅射、钛-铝-钒氮化物膜、组织结构、硬度、抗高温氧化性

所属期刊栏目：42

分类号：TQ153.1+9

资助基金：安徽省教育厅自然科学重点项目;安徽省高校优秀青年骨干教师国内访学研修项目

在线出版日期：2023-03-08（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：35-39