磁场辅助电沉积镍?纳米碳化硅复合镀层及其性能

摘要：

采用磁场辅助电沉积法在低碳钢表面上制备了纯Ni镀层和Ni–纳米SiC复合镀层.镀液组成和工艺条件为:NiSO4·6H2O 285 g/L,NiCl2·6H2O 28 g/L,H3BO325 g/L,十六烷基三甲基溴化铵80 mg/L,纳米SiC(平均粒径35 nm)0 g/L或7 g/L,pH 4.8,温度46℃,电流密度5.5 A/dm2,占空比30％,磁场强度0.2 A/m或0.4 A/m,时间30 min.对比了纯Ni镀层和Ni–纳米SiC复合镀层的组织结构、显微硬度和耐磨性,分析了磁场强度对镀层性能的影响.结果表明,在0.2 A/m磁场强度下所得Ni–纳米SiC复合镀层比相同磁场强度下制备的纯Ni镀层更均匀细致,显微硬度更高,耐磨性更强.增大磁场强度至0.4 A/m时,Ni–纳米SiC复合镀层的性能进一步提升.

关键词：复合电沉积、镍、纳米碳化硅、磁场辅助、组织结构、显微硬度、耐磨性

所属期刊栏目：41

分类号：TQ153.2

资助基金：国家自然科学基金51974089

在线出版日期：2022-11-07（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：1356-1360