紫铜表面掺钨类金刚石膜的制备及耐蚀性与细胞相容性研究

摘要：

采用阳极层流型矩形气体离子源与非平衡磁控溅射的复合技术在紫铜基体制备了掺钨类金刚石(W-DLC)薄膜.对膜层的微观形貌、相组成及显微硬度进行了表征,测试了紫铜和W-DLC膜在生理盐水(0.9% NaCl溶液)中的动电位极化曲线以分析其耐腐蚀性能,并评价了它们的细胞相容性.W-DLC膜层表面致密均匀、其中存在WC和W2C相,显微硬度为2 557 HV,能显著提高紫铜基体在生理盐水中的耐蚀性,并明显降低了紫铜对细胞增长的抑制作用.

关键词：紫铜、类金刚石膜、钨、掺杂、磁控溅射、耐蚀性、细胞相容性

分类号：TG174.444(金属学与热处理)

资助基金：广东省科技计划项目2017A070701027,2017B030314122,2014B070705007;广东省科学院实施创新驱动发展能力建设专项资金项目2017GDASCX-0111

在线出版日期：2019-08-21（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：663-667