EIS、LEIS和DEIS在金属腐蚀与防护研究中的应用进展

摘要：

介绍了电化学阻抗谱(EIS)、局部电化学阻抗谱(LEIS)和动电位电化学阻抗谱(DEIS)的优缺点,综述了这3种阻抗技术在金属表面防护涂层耐蚀性和微观缺陷研究中的应用现状,以及在金属点蚀、空蚀等局部腐蚀研究中的进展,展望了LEIS和DEIS两种阻抗技术组合在金属表面局部腐蚀动态监测方面的应用前景.

关键词：电化学交流阻抗谱、局部电化学阻抗谱、动电位电化学阻抗谱、涂层、耐蚀性、缺陷、局部腐蚀、空蚀

所属期刊栏目：37

分类号：TG17(金属学与热处理)

资助基金：中央级公益性科研院所基本科研业务费专项基金资助项目Y417005,Y417012

在线出版日期：2018-09-10（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共7页

页码：404-410