化学气相沉积金刚石膜技术专利分析

摘要：

从国内外专利文献方面分析了化学气相沉积(CVD)金刚石膜技术的研究与应用发展情况.

关键词：金刚石膜、化学气相沉积、专利、综述

所属期刊栏目：35

分类号：TN304.18;TQ164.8(半导体技术)

在线出版日期：2016-10-10（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页码：878-880