超薄SnO2修饰Cu2O多孔薄膜的可见光光电化学性能

摘要：

在FTO(即掺杂氟的SnO2透明导电玻璃)基底上采用两步恒流电沉积，得到厚度约500 nm的金属Cu薄膜，然后置于SnO2溶胶中浸渍并经175°C加热氧化，制得由超薄SnO2修饰的Cu2O多孔薄膜。利用X射线衍射(XRD)、拉曼光谱、扫描电镜(SEM)和漫反射–紫外可见光谱(UV-Vis DRS)表征了试样的结构、形貌及光学性质。通过在0.2 mol/L Na2SO4溶液中测试样品在可见光和零偏压下的光电流，分析了薄膜的光电化学性能。结果表明，超薄的SnO2修饰层能显著增强Cu2O多孔薄膜的光电化学性能。在SnO2溶胶中浸渍10 s所制备的超薄SnO2修饰Cu2O多孔薄膜，其光电流密度是Cu2O未修饰薄膜的4倍。

关键词：电沉积铜、氧化亚铜、二氧化锡、薄膜、光电化学、光电流密度

分类号：O646;TQ153.14(物理化学（理论化学）、化学物理学)

资助基金：国家自然科学基金21173196

在线出版日期：2015-07-27（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：650-655