10.3969/j.issn.1004-227X.2013.08.001
钛基掺锑二氧化锡电极中间层对其电氧化性能的影响
采用电沉积-热氧化法制备含有中间层的钛基锑掺杂二氧化锡电极。研究了在含Sn和Sb(摩尔比9∶1)的乙醇溶液中电沉积制备的中间层对Ti/SnO2-Sb电极表面形貌、组成、电氧化性能和寿命的影响。有中间层和无中间层的Ti/SnO2-Sb电极表面均有龟裂。与无中间层的Ti/SnO2-Sb电极相比,有中间层的Ti/SnO2-Sb 电极表面 Ti 含量较少,Sb、Sn 含量较高。有中间层的Ti/SnO2-Sb电极的析氧电位较高,寿命较长,对甲基橙的降解率为94.1%(仅比无中间层的Ti/SnO2-Sb电极低1.3个百分点。
钛基、掺锑二氧化锡电极、中间层、电沉积、甲基橙、电氧化
TQ153.6
2013-10-24(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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