单槽脉冲电沉积制备铜/镍纳米多层膜及其性能

摘要：

用单槽脉冲电沉积法在含CuSO4、NiSO4和Na3C6H5O7的镀液中制备了不同调制波长的Cu/Ni纳米多层膜,对其进行了截面形貌观察及显微硬度测量.结果表明,制备的多层膜平整,层间界清晰.其显微硬度在调制波长为100 nm时出现峰值.当调制波长大于100 nm时,多层膜显微硬度的变化符合Hall-Petch关系；当调制波长小于100 nm时,显微硬度开始下降.X射线衍射表明,膜层中存在压应力,Ni层形成了强(100)织构.

关键词：铜、镍、纳米多层膜、脉冲电沉积、单槽、显微硬度、应力

所属期刊栏目：31

分类号：TQ153.12

资助基金：国家自然科学基金;河南省高等学校科技创新人才支持计划;河南省高等学校科技创新人才支持计划;河南省基础与前沿技术研究计划;河南科技大学博士科研启动基金;河南省高等学校科技创新团队支持计划

在线出版日期：2013-01-16（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：7-10