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10.3969/j.issn.1004-227X.2007.05.006

用正交试验方法优化Ni-P-SiC化学复合镀工艺

引用
采用正交试验方法研究了SiC质量浓度、搅拌速度、温度、表面活性剂4因素对Ni-P-SiC化学复合镀镀层沉积速度和镀层显微硬度的影响.试验表明:温度对镀层沉积速度的影响最大,搅拌速度次之;SiC质量浓度对镀层显微硬度的影响最大,搅拌速度次之.当SiC质量浓度为7.5 g/L,搅拌速度为240 r/min,温度为90 ℃,混合添加阳离子表面活性剂和非离子表面活性剂时,镀层沉积速度达28.3 μm/h,镀层显微硬度达756 HV.经400 ℃热处理6 h后镀层显微硬度达1 250 HV.按照优化方案施镀,镀层厚度均匀,微粒在镀层中分布均匀.

Ni-P-SiC化学复合镀、正交试验、沉积速度、显微硬度

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TG178;TQ153(金属学与热处理)

2007-07-02(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

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电镀与涂饰

1004-227X

44-1237/TS

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2007,26(5)

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