硫酸钴浓度对电沉积Co-W-P薄膜结构与磁性能的影响

摘要：

在20#钢基体上电沉积Co-W-P薄膜,并研究镀液中硫酸钴浓度对Co-W-P薄膜的结合强度、结构、成分、厚度和磁性能的影响.结果表明:Co-W-P薄膜与20#钢基体结合紧密,随着硫酸钴浓度从5 g/L增至25 g/L,Co-W-P薄膜的结构和物相无明显变化,但平均晶粒尺寸呈现先减小后增大的趋势,Co元素的质量分数呈现先升高后降低的趋势,导致不同Co-W-P薄膜的致密性和磁性能存在差异.当硫酸钴浓度为15 g/L时,Co-W-P薄膜的平均晶粒尺寸仅为40.6 nm,Co元素的质量分数达到64.19％,具有最大的矫顽力(932 A/m)和饱和磁化强度(100.7 A·m2·kg-1),其结构致密并且展现出良好的磁性能.在一定范围内硫酸钴浓度的增加,降低了成核过电位,使晶粒细化且结合紧密,同时提高了钴还原沉积效率,使Co元素的质量分数升高.研究表明:晶粒细化、致密性改善以及磁性元素的协同作用进一步提高了Co-W-P薄膜的磁性能.

关键词：Co-W-P薄膜、电沉积、硫酸钴浓度、结构、磁性能

所属期刊栏目：45

分类号：TQ153

资助基金：湖北省教育厅基金项目2019JB323

在线出版日期：2023-11-10（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：15-20