ChCl-Urea低共熔溶剂中电沉积锌的工艺研究

摘要：

在摩尔比为1:2的氯化胆碱-尿素低共熔溶剂(ChCl-Urea DES)中于纯铜基体表面制备了锌镀层.通过调整沉积电位、沉积温度和锌盐配比等参数,采用正交实验优化了电沉积工艺,并通过动电位极化曲线对比研究了ChCl-Urea DES和传统水溶液中锌镀层的耐蚀性能.采用扫描电子显微镜(SEM)和X-射线衍射技术(XRD)对ChCl-Urea DES中锌镀层的微观形貌和物相组成进行了表征.结果表明,在摩尔比为1:2的ChCl-Urea DES中锌电沉积的最佳方案为沉积电位1.0 V、锌盐配比2ZnCl2:1ZnO(摩尔比)、沉积温度70℃.在此方案下可获得均匀平整,颗粒致密的锌镀层,且其耐蚀性与传统水溶液相当.SEM表明,锌镀层是由排列紧密的六方形立体结构的灰白色颗粒物质构成.XRD表明,锌镀层主要由六方结构的多晶锌组成.

关键词：低共熔溶剂;离子液体;电沉积;锌;耐蚀性

所属期刊栏目：43

分类号：TQ153.2

资助基金：辽宁省教育厅青年科技人才"育苗"项目;辽宁省沈阳材料科学国家研究中心联合研发基金项目;沈阳理工大学大学生创新创业计划项目

在线出版日期：2021-11-24（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：23-28