GCr15轴承内圈磁粒研磨光整实验

摘要：

利用磁粒研磨加工工艺对轴承内圈进行光整加工实验,以降低其表面粗糙度值为目的,通过Ansoft Maxwell磁场模拟软件对磁极三种形状进行仿真分析,得到磁极开轴向槽磁场强度大,在此基础上研究了磨料粒径、磁极转速和研磨液用量对表面粗糙度值的影响.结果表明:当磨料粒径为185μm时,磁极转速为600 r/min、研磨液用量为6 mL,光整加工60 min,轴承内圈的表面粗糙度值由原始的0.51μm下降至0.10μm,表面的划痕、刀微纹基本全部去除,表面形貌的均匀性较好,表面的显微硬度由原始的820 HV变为了900 HV,研磨后的表面强度增加了.

关键词：磁粒研磨、磁场模拟、粗糙度值、表面形貌、显微硬度

所属期刊栏目：41

分类号：TG147(金属学与热处理)

资助基金：国家自然科学基金51775258

在线出版日期：2019-07-24（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：1-5