N(C2H4OH)3对电合成氧化钴/聚苯胺复合膜腐蚀性能的影响

摘要：

通过单因素实验研究了三乙醇胺(N(C2H4OH)3)对恒电位法合成氧化钴/聚苯胺复合膜的影响.采用电化学测试技术、扫描电镜、X射线衍射和加速腐蚀实验等方法对膜层的耐腐蚀性能进行分析.结果表明,恒电位法合成的氧化钴/聚苯胺复合膜中,氧化钴以晶体形式存在,三乙醇胺的加入使复合膜的微观形貌由不致密不规则的片状形貌,转变为均匀致密的片状形貌.三乙醇胺加入2 g/L时,复合膜的自腐蚀电流达到9.09×10-7 A/cm2,自腐蚀电位达到-0.152 V,10％ HCl点滴腐蚀时间达496 s,10％ NaOH点滴实验时间467 s,中性盐雾实验48 h未见锈蚀.

关键词：恒电位法、氧化钴、耐蚀性、聚苯胺、三乙醇胺

所属期刊栏目：40

分类号：TQ153.2

在线出版日期：2018-07-19（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：6-9