10.3969/j.issn.1001-3849.2015.06.008
杂质离子对电解铜箔生产质量的影响
通过霍尔槽试验和模拟生箔试验,研究了双面光铜箔制造中电解液常见杂质离子对产品质量的影响.确定了杂质离子的容许含量.结果表明,电解液中ρ(Zn2+)高于2g/L、ρ(Fe3+)高于6 g/L、ρ(Ni2+)高于3g/L及ρ(Cr3+)高于3g/L,均会对电解铜箔的光亮度造成不良影响.
杂质离子、电解铜箔、镀层、光亮度
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TQ153.14
2012年广东省第二批重大科技专项计划项目项目编号2012A080106006
2015-07-20(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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