10.3969/j.issn.1001-3849.2010.04.003
电刷镀纳米晶铜镀层的结构
通过X-射线衍射分析、场发射扫描电子显微镜分析、表面原子力显微镜分析及透射电子显微镜观察,得到了电刷镀纳米晶铜镀层为等轴晶粒结构,晶粒d平均为26nm,且分布均匀,主要为大角度晶界结构,不存在微观裂纹、微孔及明显的晶体织构.
电刷镀、纳米晶、铜镀层、微观结构
32
TQ153.14
2010-05-31(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共3页
8-10
10.3969/j.issn.1001-3849.2010.04.003
电刷镀、纳米晶、铜镀层、微观结构
32
TQ153.14
2010-05-31(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共3页
8-10
国家重点研发计划“现代服务业共性关键技术研发及应用示范”重点专项“4.8专业内容知识聚合服务技术研发与创新服务示范”
国家重点研发计划资助 课题编号:2019YFB1406304
National Key R&D Program of China Grant No. 2019YFB1406304
©天津万方数据有限公司 津ICP备20003920号-1
违法和不良信息举报电话:4000115888 举报邮箱:problem@wanfangdata.com.cn