期刊专题

10.3969/j.issn.1001-3849.2010.04.003

电刷镀纳米晶铜镀层的结构

引用
通过X-射线衍射分析、场发射扫描电子显微镜分析、表面原子力显微镜分析及透射电子显微镜观察,得到了电刷镀纳米晶铜镀层为等轴晶粒结构,晶粒d平均为26nm,且分布均匀,主要为大角度晶界结构,不存在微观裂纹、微孔及明显的晶体织构.

电刷镀、纳米晶、铜镀层、微观结构

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TQ153.14

2010-05-31(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

共3页

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电镀与精饰

1001-3849

12-1096/TG

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2010,32(4)

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