10.3969/j.issn.1001-3849.2007.04.005
电沉积纳米晶Co-B合金膜的影响因素
通过正交试验和单因素试验,发现电沉积纳米晶Co-B合金的镀速随镀液温度的升高、电流密度的增大、pH的增加而增大.在镀液稳定范围内,随硫酸钴、硼氢化钠质量浓度的增加而增大,随酒石酸钠质量浓度的增加而减小,当四硼酸钠达到一定质量浓度时,对镀速影响较小.在研究范围内所得合金膜全部为非晶态,扫描电子显微镜和扫描隧道电子显微镜观察发现,非晶镀层是由纳米相微粒构成微米级的二次颗粒,二次颗粒堆砌形成薄膜.
电沉积、Co-B合金、非晶态、纳米材料
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O484.1;TQ153.2(固体物理学)
2007-08-13(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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