期刊专题

10.3969/j.issn.1001-3849.2005.02.007

化学镀铜法包覆铝及氧化铜团聚粉体工艺研究

引用
研究了以次磷酸钠为还原剂,在Al及CuO团聚粉体上直接化学镀铜的工艺,利用正交试验设计优化了工艺配方.对优化的配方进行验证实验,用扫描电镜和能谱分析了镀覆效果.结果表明该工艺配方简便易行,具有良好的镀覆能力,与传统工艺相比具有镀液稳定性好,工作温度低,同时不破坏粉体的优点.

团聚粉、化学镀、Cu包覆

27

TQ153.14

国家自然科学基金50272084

2005-04-07(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

共4页

24-27

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电镀与精饰

1001-3849

12-1096/TG

27

2005,27(2)

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