10.3969/j.issn.1001-3849.2004.03.002
电沉积技术制备Ni-纳米SiO2复合镀层的研究
用电沉积方法制备了镍-纳米氧化硅复合镀层.研究了阴极电流密度、纳米SiO2微粒质量浓度、pH值、搅拌方式和表面活性剂种类以及质量浓度等对镀层中SiO2含量的影响,确定了可获得一定纳米氧化硅含量的复合镀工艺参数范围.并用扫描电镜观察了所获镀层的表面形貌.
纳米材料、镍-纳米SiO2复合镀层、电沉积
26
TQ153
2004-06-18(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
共5页
5-8,19