10.3969/j.issn.1001-3849.2002.02.012
化学镀铜工艺
概述了配制化学镀铜液时添加一次化学镀铜所需要的金属离子、络合剂、还原剂和pH调整剂,到化学镀铜结束时镀液中的金属离子,还原剂和pH调整剂将全部消耗为特征的化学镀铜液,这样镀液中不会积累还原反应生成物或残留铜粉,而且容易回收络合剂等有效成分,提高镀层析出效率和镀层延展性等物理性能.
化学镀铜、析出效率、歧化反应
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TQ153.14
2004-01-08(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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