钒化合物稳定剂对锡电沉积过程的影响

摘要：

研究了Shiff碱型光亮剂的酸性镀锡体系中,钒化合物稳定剂对锡电沉积的电流效率和镀层外观及织构的影响.当稳定剂质量浓度为0.10 g/L时,镀层的光亮范围向低电流端扩展,在2.5～5.0 A/dm2电流密度范围内,电流效率及沉积速度都有所提高.镀层显示β-Sn(101)和(112)晶面的织构,但含钒稳定剂的镀液中得到的镀层,(101)晶面的织构系数降低而(112)晶面的织构系数增加.

关键词：钒化合物、稳定剂、电沉积、酸性镀锡

所属期刊栏目：23

分类号：TQ153.13

资助基金：福建省自然科学基金E0010005;厦门大学校科研和教改项目994003

在线出版日期：2004-01-08（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

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