10.3969/j.issn.1001-1579.2000.05.009
碱锰电池集流体铜钉化学抛光工艺的研究
针对碱锰电池集流体铜钉提出了h2SO4-NaNO3-HCl、H2O2-HNO3和添加光泽碳黑的两步浸蚀等三种化学抛光工艺,并采用多种方法评价了化学抛光后铜钉的性能,其指标包括:铜钉的接触电阻、在锌粉中的析氢量、X射线能谱(EDX)、电池短路电流、电池容量等。研究结果表明,H2SO4-NaNO3-HCl化学抛光工艺所获得的铜钉性能最好,其各项指标均优于或接近于有氰化学抛光工艺。
碱性锌锰电池、集流体、化学抛光
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TM911.14
2004-01-08(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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