IC制造中氮化硅薄膜的制备方法

摘要：

氮化硅薄膜是芯片制造中广泛运用的一种绝缘薄膜,其可用作芯片表面的掩蔽膜及钝化膜.简要介绍IC制造中几种主要的氮化硅薄膜的制备技术,并探讨新型的制备技术.

关键词：氮化硅、绝缘膜、掩蔽膜、钝化膜

所属期刊栏目：8

分类号：TB383(工程材料学)

在线出版日期：2009-05-22（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共3页

页码：19-21