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10.11868/j.issn.1001-4381.2021.000477

WO3/BiVO4复合薄膜的制备及其光电化学性能

引用
导电玻璃作为基底制备WO3纳米片薄膜,通过改变旋涂BiVO4次数,以WO3纳米片薄膜为基底成功制得不同厚度的WO3/BiVO4复合薄膜样品.利用X射线衍射仪(XRD)和扫描电子显微镜(SEM)等分析方法对样品进行表征,并对WO3/BiVO4复合薄膜样品进行吸收光谱、光电流、光电催化和交流阻抗测试.结果表明:WO3/BiVO4复合薄膜样品的光电流密度和光电催化降解效率相较于单一WO3纳米薄膜都得到了提高,具有更好的光电化学性能.且旋涂两次BiVO4的WO3/BiVO4复合薄膜样品有最高的光电流密度值(1.79 mA/cm2)和光电催化降解效率(约为60.5%),比单一WO3材料的光电流密度(1.30 mA/cm2)提高了27.4%,光电催化降解效率也比单一WO3材料的光电催化降解效率(约为47.9%)提升了26.3%,具有最优异的光电化学性能.

WO3、BiVO4、光电流、光电催化

51

O643(物理化学(理论化学)、化学物理学)

吉林省教育厅基金项目JJKH20220726KJ

2023-02-24(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

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1001-4381

11-1800/TB

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2023,51(2)

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