Fei氏方波对Ni-P合金镀层组成及其非晶化程度的调控作用

摘要：

为解决常规电沉积过程中无法获得耐蚀性优异的非晶态结构Ni-P合金镀层的问题,以快速镀Ni-P合金镀液为基础镀液,采用Fei氏方波电沉积法研究波形参数对Ni-P合金镀层非晶化过程的影响规律.采用扫描电子显微镜(SEM)表征Ni-P合金镀层的微观形貌,通过能谱分析(EDS)方法进行镀层P含量分析,用X射线衍射技术(XRD)考察镀层相结构的变化.优化的脉冲工艺参数为:平均电流密度15A/dm2,逆向脉冲系数0.3,占空比0.6,频率1 Hz.研究表明:通过调整Fei氏方波参数,可电沉积出镀层表面完整、外观光亮、P含量最高可达17.93％(质量分数)、几乎没有金属晶体衍射峰的非晶态Ni-P合金镀层.

关键词：非晶化、电沉积、Fei氏方波、高P、Ni-P合金

所属期刊栏目：48

分类号：TG174.441(金属学与热处理)

在线出版日期：2020-06-22（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共7页

页码：163-169