真空室压力对低压等离子喷涂成形钨靶材显微组织及性能的影响

摘要：

采用低压等离子喷涂成形技术制备片状及回转体钨靶材,分析真空室压力对钨靶材致密度、氧质量分数、微观结构、显微硬度及抗拉强度等性能的影响,并对片状钨靶材的磁控溅射镀膜进行研究.结果表明:随着真空室压力由1.3×104 Pa增大至3.9×104 Pa,钨粉充分熔化铺展,未熔W颗粒减少,钨靶材氧含量稍有提高,致密度,显微硬度和抗拉强度分别增大至97.2％,377.8HV0.025及201.1MPa.然而,当真空室压力进一步增大至6.5×104 Pa后,钨靶材层片结合界面形成絮状的W3O夹杂层,氧含量增大至0.71％,其各项性能反而有所降低.低压等离子喷涂成形片状钨靶材(3.9×104pa真空室压力)可磁控溅射沉积出平整、致密、连续的钨薄膜,镀膜厚度约为300nm.XRD结果表明,钨薄膜为体心立方结构,沿(110)方向择优生长.磁控溅射离子的均匀轰击导致钨靶材表面快速溅射及均匀减薄,溅射表面及截面较为平整、光滑,溅射凹坑接近纳米级.

关键词：低压等离子喷涂、钨靶材、显微组织、力学性能、磁控溅射

所属期刊栏目：46

分类号：TG146.4+12(金属学与热处理)

资助基金：湖南省自然科学基金2016JJ5029;湖南省军民融合产业发展专项资金B116J1;材料成形与模具技术国家重点实验室华中科技大学开放基金P2016-20;国家金属材料近净成形工程技术研究中心华南理工大学开放基金2016003;广东省金属强韧化技术与应用重点实验室广东省材料与加工研究所开放基金GKL201610;湖南省湘潭市企业科技特派专家项目CXY-TPZJ20171007

在线出版日期：2018-12-14（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共9页

页码：104-112