不同Ti含量的W-Ti-N复合膜的微结构及性能研究

摘要：

采用多靶反应磁控溅射技术制备一系列不同Ti含量的W-Ti-N复合膜.采用X射线衍射仪、扫描电镜、纳米压痕仪等检测方法对薄膜的微结构和力学性能进行表征.采用UMT-2功能摩擦试验机,在室温、大气环境、无润滑的条件下对W-Ti-N复合膜的摩擦性能进行评价,同时,探讨薄膜的致硬机理和摩擦机制.结果表明:Ti含量(原子分数,下同)为5％～23.48％时,薄膜硬度处于峰值区,硬度值最高可达39GPa,摩擦因数在0.4左右.当Ti含量高于23.48％时,硬度随着Ti含量增加而下降,摩擦因数随Ti含量的增加而升高.

关键词：磁控溅射、W-Ti-N复合膜、微结构、力学性能、摩擦性能

分类号：TG174.44(金属学与热处理)

资助基金：国家自然科学基金资助项目51074080;江苏省自然科学基金资助项目BK2008240

在线出版日期：2015-02-03（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：23-27