用于分离CH4/CO2疏水性SiO2膜的制备

摘要：

分别采用KH-570,KH-560和A-151代替部分TEOS作为前驱体,通过溶胶-凝胶法制备了疏水性SiO2气体分离膜,利用IR,BET,TG,SEM以及接触角测试仪等对其进行了表征,并对(0.8KH-570)SiO2膜进行了CH4/CO2气体渗透性能评价.结果表明,当A-151,KH-570和KH-560与TEOS的摩尔比均为0.8时,膜的接触角分别从28.6°增大到97.8,94.2°和90.7°.膜样品的疏水性增强,修饰后的膜孔径分布更加狭窄,平均孔径减小,抵抗水蒸汽的能力明显增强；膜层无开裂,表面完整.其中,KH-570修饰的膜性能较好,在n(KH-570)/n(TEOS)=0.8时,压力为30kPa的条件下,(0.8KH-570)SiO2膜对CH4/CO2的分离因子为2.13,大于纯SiO2膜的分离因子(1.58)和努森扩散理论的分离因子(1.67),分离效果较好.

关键词：溶胶-凝胶法、疏水性、无开裂、分离因子、努森扩散

分类号：TQ325;O484

资助基金：国家自然科学基金资助项目21076126;辽宁省高等学校优秀人才支持计划资助LR2012013

在线出版日期：2013-04-01（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：78-82