10.3969/j.issn.1001-4381.2012.07.019
非对称双极脉冲反应磁控溅射制备TiN/NbN多层膜
采用非对称双极脉冲磁控溅射制备了一系列不同调制周期的TiN /NbN纳米多层膜,利用X射线衍射分析(XRD)、纳米压痕仪、扫描电子显微镜(SEM)表征了薄膜的微观结构、力学性能和断口形貌.结果表明,在调制周期为19.86nm时,纳米压痕硬度达到43GPa.利用三点弯曲法形成裂纹的扩展,并观察到了裂纹的偏转特征.
纳米多层膜、力学性能、调制周期
TB34(工程材料学)
国家自然科学基金项目51102013
2012-09-29(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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