调制周期对ReB2/TaN纳米多层膜的结构和力学性能影响

摘要：

利用射频磁控溅射方法(衬底温度20℃)制备TaN,ReB2单层膜及ReB2/TaN纳米多层膜,并通过XRD,SEM,XP-2表面轮廓仪及纳米力学测试系统对薄膜的微结构和力学性能进行表征,分析调制周期对其影响.结果表明:TaN和ReB2均具有典型的六方结构,在其构成的多层膜中,当调制周期达到8～12nm附近时,纳米多层膜的硬度和弹性模量均高于两种材料所构成单层膜的相应值.在A=9.6nm,多层膜达到最高硬度(28.8GPa)及弹性模量(345.9GPa),同时内应力取得较好结果.

关键词：射频磁控溅射、ReB2/TaN纳米多层膜、调制周期、硬度

分类号：TG174.444(金属学与热处理)

资助基金：国家自然科学基金50872094;天津市应用墓础及前沿技术研究计划重点项目2012

在线出版日期：2012-02-21（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：58-60,65