10.3969/j.issn.1001-4381.2010.10.002
纳米银焊膏的烧结性能及其用于铜连接的研究
采用化学还原法制备出粒径分布在20~80nm的纳米银焊膏,每个纳米银颗粒上包裹的有机壳防止纳米颗粒的聚合.通过扫描电镜(SEM)对不同温度下银烧结层的微观组织变化进行观察,在200℃条件下烧结30min后,银烧结层连接为联通多孔结构;高于250℃时银颗粒出现明显的长大现象.在250℃温度下,外加10MPa压力采用纳米银焊膏对镀银纯铜材料进行烧结连接,得到接头剪切强度达到39MPa.对接头断口的显微组织分析表明,纳米银颗粒形成致密的烧结结构,断口组织在低倍SEM下未观察到明显塑性变形痕迹,但在高倍SEM下断口处的微观组织呈现了韧窝状组织,具有韧性材料断口材料的微观特征.
纳米银焊膏、烧结性能、连接、电子封装
TB31(工程材料学)
国家自然科学基金资助项目51075232
2011-01-05(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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