正压化学气相沉积工艺炭/炭复合材料飞机刹车盘制备

摘要：

通常所称的化学气相沉积(CVD)工艺都是在真空状态下进行的(V-CVD).正压化学气相沉积工艺(以下简称:A-CVD)的沉积过程是在高于一个大气压力下进行的,所需的设备造价相对于V-CVD更便宜且易于维护.采用A-CVD工艺制造的短纤维预制体炭/炭复合材料刹车盘经惯性台试验验证,其平均摩擦系数达到0.417(50次刹车试验结果),而且在室温自然条件下放置24h后,摩擦系数基本保持不变.

关键词：炭/炭复合材料、工艺、性能

分类号：TB332(工程材料学)

在线出版日期：2010-09-08（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共5页

页码：34-37,41