不同环境气压下激光沉积制备锗纳米薄膜的研究

摘要：

采用脉冲激光沉积(PLD)技术,在不同环境压强下于室温Si衬底上沉积制备出了Ge纳米薄膜.用X射线衍射仪(XRD)和扫描电子显微镜(SEM)研究了环境压强对薄膜的微观结构、形貌以及膜厚的影响规律.结果表明:所制备的纳米薄膜中Ge均为晶态;随着环境压强的增大,薄膜表面由常规的量子点镶嵌结构演变为类网状结构;膜厚随着环境压强的增大而减小.

关键词：脉冲激光沉积(PLD)、锗、纳米薄膜、环境压强

分类号：O484.1(固体物理学)

资助基金：国家自然科学基金60777023;浙江省自然科学重点基金Z407371资助课题

在线出版日期：2008-11-27（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：268-271