磁头表面超薄DLC保护层厚度测量研究

摘要：

研究了测量磁头表面超薄DLC薄膜和Si中间层厚度的方法,所用的设备有:AES,XPS,TEM.研究结果显示,XPS和AES测量的结果较为吻合,TEM的结果则存在较大差异.在TEM高分辩像下无法分清DLC和Si层,并对AES,XPS和TEM结果产生差异的原因进行了分析.

关键词：超薄类金刚石、厚度、XPS、AES、TEM

分类号：TB43(工业通用技术与设备)

在线出版日期：2006-08-09（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共3页

页码：28-30