磁控溅射法制备CNx薄膜及其结构表征

摘要：

以Ar/N2混合气体作为溅射气体,利用直流磁控溅射的方法制备子碳氮薄膜.利用X射线衍射和红外光谱对碳氮薄膜进行了结构分析.IR光谱证实了薄膜中碳氮化合物的形成,而XRD的检测结果表明,类石墨相g-C3N4是碳氮薄膜中的主要成分,同时有极少量的β-C3N4晶相生成.同时发现,Ar/N2溅射气体的分压对获取β-CsN4有着明显的影响.本实验中,当N2体积分数为33%,碳氮薄膜中β-C3N4晶相的含量最高.

关键词：碳化氮、薄膜、磁控溅射、结构表征

分类号：O484(固体物理学)

资助基金：东南大学校科研和教改项目4012001003

在线出版日期：2006-08-16（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：11-13,18