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10.3969/j.issn.1001-4381.2005.04.001

CVD SiC致密表面涂层制备及表征

引用
考察了沉积温度、稀释气体流量对化学气相沉积(CVD)SiC涂层的显微结构及晶体结构的影响,分析得出:沉积温度为1100℃,稀释气体Ar流量<400mL/min时,制备的SiC涂层晶体结构完整、致密.在该制备工艺条件下沉积的SiC涂层密度为3.204 g/cm3,显微硬度为HV 4459.2,弹性模量为471GPa,涂层具有优异的光学加工性能,光学加工后表面粗糙度为0.429nm,能满足光学应用的要求.

化学气相沉积、SiC涂层、制备工艺、性能表征

TB323(工程材料学)

2005-05-26(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

共4页

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材料工程

1001-4381

11-1800/TB

2005,(4)

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