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10.3969/j.issn.1001-4381.2003.11.006

CeO2掺杂TiO2催化剂薄膜的制备与表征

引用
以Ar为工作气体,O2为反应气体,利用射频磁控溅射技术成功地在载玻片上沉积了透明TiO2催化剂薄膜.同时利用共溅射技术制备了掺杂CeO2的TiO2催化剂薄膜.采用X射线衍射(XRD)、Raman光谱、UV-VIS-NIR分光光度计、原子力显微镜(AFM)对薄膜进行了结构和形貌表征.

TiO2薄膜、CeO2掺杂、共溅射

TG146.4(金属学与热处理)

国家自然科学基金59982002;教育部重点实验室基金;北京市科技新星计划项目B类,H020821250190

2004-01-02(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)

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材料工程

1001-4381

11-1800/TB

2003,(11)

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