10.3969/j.issn.1001-4381.2003.11.006
CeO2掺杂TiO2催化剂薄膜的制备与表征
以Ar为工作气体,O2为反应气体,利用射频磁控溅射技术成功地在载玻片上沉积了透明TiO2催化剂薄膜.同时利用共溅射技术制备了掺杂CeO2的TiO2催化剂薄膜.采用X射线衍射(XRD)、Raman光谱、UV-VIS-NIR分光光度计、原子力显微镜(AFM)对薄膜进行了结构和形貌表征.
TiO2薄膜、CeO2掺杂、共溅射
TG146.4(金属学与热处理)
国家自然科学基金59982002;教育部重点实验室基金;北京市科技新星计划项目B类,H020821250190
2004-01-02(万方平台首次上网日期,不代表论文的发表时间)
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