不同裂解升温速率制备的Cf/Si3N4复合材料性能研究

摘要：

以聚硅氮烷为先驱体,研究先驱体转化过程中不同裂解升温速率对制备3D-B Cf/Si3N4复合材料性能的影响.结果表明:随着裂解升温速率的提高,陶瓷基复合材料的力学性能明显提高,以10℃/min裂解升温速率制得的陶瓷基复合材料的弯曲强度达604MPa.

关键词：陶瓷基复合材料、裂解升温速率、聚硅氮烷、力学性能

分类号：TB323(工程材料学)

在线出版日期：2004-01-08（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：22-24,28