Cr离子注入铜薄膜对氧化物形成特征的影响

摘要：

采用X射线衍射和卢瑟福背散射技术,研究了Cr离子注入铜薄膜对氧化物形成及其演变的影响.结果表明,离子注入改变了薄膜的氧化行为和氧化物结构.离子注入阻碍Cu原子的扩散,并抑制Cu2O向CuO转变,使得铜薄膜表面的氧化物具有层状结构.探讨了注入前后薄膜表面氧化物形成的机理.

关键词：铜薄膜、离子注入、氧化

分类号：TQ174.44

在线出版日期：2004-01-08（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共3页

页码：39-40,46