离子束辅助沉积制备的铁锆多层膜中的相演化

摘要：

研究了用氩离子束辅助沉积(IBAD)技术制备的铁/锆多层膜中的微结构演化规律.实验中所使用的氩离子能量范围为4keV到12keV,束流密度为12 μA/cm2.实验结果表明,用IBAD技术可在富锆端制备出完全非晶化的薄膜.对于Fe(0.54nm)/Zr(4.5nm)多层膜,随Ar离子能量的增加,在薄膜中还观察到晶态-非晶-亚稳fcc相-非晶-晶态的结构转变.对于富铁合金膜,IBAD技术仅能制备部分非晶化的薄膜.

关键词：离子束辅助沉积、非晶薄膜、铁-锆合金

分类号：O484(固体物理学)

资助基金：国家自然科学基金19875027

在线出版日期：2004-01-08（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：19-21,48