TiN/AlN纳米多层膜的研究

摘要：

采用反应溅射法制备了TiN/AlN纳米多层膜,并通过XRD,HREM和显微硬度计对多层膜的调制结构和力学性能进行了研究.结果表明:TiN/AlN纳米多层膜有较好的调制结构.小调制周期时,AlN调制层以FCC结构在TiN调制层上外延生长.调制周期增大,AlN调制层中出现六方晶型.TiN/AlN的显微硬度随调制周期的减小单调上升,并在调制周期=2nm时达到最高值HK3293.硬度的增高极有可能是小调制周期时立方AlN的形成所致.

关键词：纳米多层薄膜、反应溅射、调制结构、显微硬度

所属期刊栏目：11

分类号：O484(固体物理学)

在线出版日期：2004-01-08（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共4页

页码：6-9