自闭症儿童早期大脑过度发育的sMRI研究

摘要：

目的 利用结构磁共振成像(structural MRI,sMRI)提取的区域特征来研究自闭症患者的大脑发育异常情况.材料与方法 收集59例年龄2～4岁的自闭症儿童和50名年龄4～10岁的正常儿童的结构磁共振数据,利用freesurfer软件提取大脑皮层厚度、灰质和白质区域体积以及从预定义的感兴趣区域(region of interest,ROI)提取的若干皮层下结构等区域特征,最后经统计分析方法计算两组的差异.结果 通过对150项脑皮层与体积指标进行t检验组分析,发现自闭症患儿与正常对照组在其中66项上存在显著差异(P＜0.05),与年龄较大的正常发育中的儿童相比,自闭症儿童的大脑表现出明显的过度生长模式,特别是在顶叶、枕叶、额叶、颞叶和楔前叶等区域.结论 本研究证实自闭症儿童存在大脑结构过度发育现象,增加的大脑尺寸是自闭症患儿早期大脑发育的重要结构特征,这将为自闭症的早期诊断和病情评估提供了有力工具.

关键词：自闭症谱系障碍、磁共振成像、过度生长、大脑皮层

所属期刊栏目：11

分类号：R445.2;R749.94(诊断学)

在线出版日期：2020-05-07（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：264-269