硅基MOSFET功率放大器TO-3封装热性能研究

摘要：

针对某款硅基MOSFET功率放大器TO-3封装散热问题,研究了其内部2个功率芯片在35 W下的热性能.通过建立该款功率放大器TO-3封装的有限元仿真模型,采用热仿真软件对这2个功率芯片的间距、焊片材料和厚度以及基板材料和厚度进行仿真优化,分析各个变量对芯片结温的影响.仿真结果表明在管基材料确定的情况下,氧化铍基板和金锡焊片对器件散热有较明显的效果.选用2.5 mm厚的10#钢和其他优化参数进行仿真,结果显示芯片位置处的温度最高,最高温度约为88℃.通过制备相应产品对比了优化前后该款功率放大器的温度变化,测试结果显示优化后器件热阻从2.015℃/W降低到1.535℃/W,产品散热效率提高了约23％.

关键词：Si、MOSFET、TO-3封装、热分析、功率放大器

所属期刊栏目：46

分类号：TN305.94(半导体技术)

资助基金：贵州省科技计划201977534453830250

在线出版日期：2021-05-13（万方平台首次上网日期，不代表论文的发表时间）

页数：共6页

页码：310-315